提纯与涂层

纯度控制:

• 美尔森的提纯工艺可以获得很低的杂质含量水平的石墨，低于5ppm。
• 美尔森使用ETV-ICP的方法来检测及监测杂质含量水平，可使其低于5ppm。

洁净度控制：

• 玻璃碳浸渍（VCI）是为了减少材料在真空下微粒泄出而开发的技术，特别适合半导体应用。

对等离子处理过程中使用试剂的耐受性：

• 美尔森的产品可以涂上薄薄一层的热解碳，从而将材料的渗透性降至到适合半导体的应用。
• 为了进一步加强对工艺试剂的耐受性，美尔森通过树脂浸渍芯材来减少气孔。

耐受900℃以上的氢气、耐受MOCVD试剂、耐强酸（HCL, HF）

• 美尔森在碳化硅涂层的沉积工艺方面拥有专业技术，可在特别恶劣的环境下为石墨设备提供保护。